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Heißdraht-CVD-Prozesse für Silizium-Heterostruktursolarzellen

Vorgehensmodell zur Entwicklung und Herstellung von Dünnschichtsensoren für Produktionswerkzeuge

Einfluss der Kristallinität von TiO(tief)2-Dünnschichten auf den photokatalytischen Stickstoffmonoxid-Abbau

Low-Temperature Silicon Deposition by Means of Hot-Wire Chemical Vapour Deposition

Entwicklung von Kohlenwasserstoffschichten für die schmiermittelfreie Kaltumformung von Aluminiumblechen durch Tiefziehen

Herstellung und Untersuchung p-leitender transparenter CuAlO2- und CuCrO2-Schichten

Einsatz von Polyelektrolyt-Multischichten für das temporäre Waferbonden

Atmosphärendruck-Plasmapolymere als Sperrschichten gegen die Migration von Weichmachern

Modulares Anlagenkonzept zur kontinuierlichen, kostengünstigen Fertigung von strukturierten Metallisierungen für Elektronikkomponenten und Biosensoren (P3T)

Heißdraht-CVD von Siliziumschichten - Untersuchungen zur Stabilisierung des Abscheideprozesses

Physikalisch-chemische Eigenschaften von SiO2-Schichten auf plasmabehandelten Siliziumoberflächen.

Anlagen- und Prozessentwicklung für das Niedrigtemperatur-Direktbonden mittels Atmosphärendruck-Plasmaaktivierung.

Entwicklung und Charakterisierung eines Schichtsystems für Lasermikrodissektion und Laserkatapultieren.

Funktionale Polyelektrolytschichten für mikrofluidische Systeme

Entwicklung von Dünnschichtsensoren auf Basis piezoresistiver Kohlenwasserstoffschichten.

Superhydrophobe Oberflächen mit Fluorpolymeren in hierarchischen Strukturen.

Magnetronsputtern von hochleitfähigen ZnO:Al-Schichten für die Photovoltaik.

Empirische Modelle zur Bewertung des tribologischen Verhaltens von Kohlenstoffschichten.

Strukturelle Eigenschaften von dünnen amorphen Kohlenstoffschichten und ihre Auswirkungen auf Mikrotribologie und Deformationsverhalten.

The development of 3C-SiC interlayers for diamond deposition on cemented carbide cutting tools