
Simulationen in der Dünnschichttechnik
TEWISS (Publisher)
1st Edition
Published on 17. November 2015
Book
Paperback/Softback
147 pages
978-3-95900-038-3 (ISBN)
Description
Moderne Beschichtungsverfahren zählen zu den wichtigsten Schlüsseltechnologien in Industrie und Forschung. So ist beispielsweise in der Photonik kaum ein Produkt zu finden, das keine optischen Funktionsschichten enthält.
Im Zuge der Entwicklung anspruchsvoller optischer Systeme mit vielen, auf kleinstem Raum angeordneten Elementen oder von Lasersystemen mit immer größeren Ausgangsleistungen werden stetig steigende Anforderungen an die Herstellung solcher Funktionsschichten gestellt. In der optischen Dünnschichttechnologie beruhten entsprechende Lösungsstrategien über Jahrzehnte hinweg auf kleinen technischen Iterationsschritten, die immer wieder die notwendigen Qualitätsverbesserungen erbrachten. Auch vor dem Hintergrund des Trends zu einem hohen Diversifizierungsgrad der Produkte und der damit einhergehenden enormen Flexibilisierung der Beschichtungsverfahren stößt man mittlerweile jedoch an die Grenzen dieser einfachen, aber dennoch sehr aufwändigen empirischen Anpassungstechniken. Notwendig ist hier nunmehr ein strategisches Umdenken hin zu modellbasierten Optimierungsverfahren, die auf der Grundlage von Simulationen der einzelnen Fertigungsphasen eine kosteneffiziente und bedarfsgerechte Abstimmung der Funktionsschichten auf das Produkt ermöglichen.
Der Workshop Simulationen in der Dünnschichttechnik stellte hierzu den Stand der Forschung zusammenfassen und setzte Impulse für den Transfer in die Praxis. Die Vorträge bilden den Inhalt dieses Tagungsbandes.
Im Zuge der Entwicklung anspruchsvoller optischer Systeme mit vielen, auf kleinstem Raum angeordneten Elementen oder von Lasersystemen mit immer größeren Ausgangsleistungen werden stetig steigende Anforderungen an die Herstellung solcher Funktionsschichten gestellt. In der optischen Dünnschichttechnologie beruhten entsprechende Lösungsstrategien über Jahrzehnte hinweg auf kleinen technischen Iterationsschritten, die immer wieder die notwendigen Qualitätsverbesserungen erbrachten. Auch vor dem Hintergrund des Trends zu einem hohen Diversifizierungsgrad der Produkte und der damit einhergehenden enormen Flexibilisierung der Beschichtungsverfahren stößt man mittlerweile jedoch an die Grenzen dieser einfachen, aber dennoch sehr aufwändigen empirischen Anpassungstechniken. Notwendig ist hier nunmehr ein strategisches Umdenken hin zu modellbasierten Optimierungsverfahren, die auf der Grundlage von Simulationen der einzelnen Fertigungsphasen eine kosteneffiziente und bedarfsgerechte Abstimmung der Funktionsschichten auf das Produkt ermöglichen.
Der Workshop Simulationen in der Dünnschichttechnik stellte hierzu den Stand der Forschung zusammenfassen und setzte Impulse für den Transfer in die Praxis. Die Vorträge bilden den Inhalt dieses Tagungsbandes.
More details
Series
Edition
Erstauflage
Language
German
Place of publication
Garbsen
Germany
Edition type
New edition
Dimensions
Height: 21 cm
Width: 14.7 cm
ISBN-13
978-3-95900-038-3 (9783959000383)
Schweitzer Classification
Persons
Editor
ISNI: 0000 0000 2222 2983 GND: 133505243
Series Editor
ISNI: 0000 0000 2222 2983 GND: 133505243
Content
1. Einleitung - Simulation in der Dünnschichttechnik (N. Kaiser)
2. Simulation der optischen Konstanten von PVD-Mischschichten auf der Basis klassischer Mischmodelle (O. Stenzel)
3. Simulation von Schichtdesignen und Re-Engineering (T. Amotchkina, M. Trubetskov, A. Tikhonravov)
4. Simulation und Messung im Beschichtungsprozess (S. Schlichting)
5. Plasmasimulation im Beschichtungsprozess (A. Pflug, M. Siemers, T. Melzig, M. Vergöhl)
6. Schichtwachstumssimulation mittels klassischer Molekulardynamik (M. Turowski, M. Jupé, H. Ehlers, D. Ristau)
7. Konzepte und Modelle für fs-Schichtoptiken (U. Morgner)
8. Nichtlineare Effekte und UKP-Zerstörmechanismen in optischen Materialien (M. Jupé)
2. Simulation der optischen Konstanten von PVD-Mischschichten auf der Basis klassischer Mischmodelle (O. Stenzel)
3. Simulation von Schichtdesignen und Re-Engineering (T. Amotchkina, M. Trubetskov, A. Tikhonravov)
4. Simulation und Messung im Beschichtungsprozess (S. Schlichting)
5. Plasmasimulation im Beschichtungsprozess (A. Pflug, M. Siemers, T. Melzig, M. Vergöhl)
6. Schichtwachstumssimulation mittels klassischer Molekulardynamik (M. Turowski, M. Jupé, H. Ehlers, D. Ristau)
7. Konzepte und Modelle für fs-Schichtoptiken (U. Morgner)
8. Nichtlineare Effekte und UKP-Zerstörmechanismen in optischen Materialien (M. Jupé)