Einflussfaktoren auf die Emissionseigenschaften einer EUV Strahlungsquelle im Langzeitbetrieb

 
 
Apprimus Verlag
  • 1. Auflage
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  • erschienen am 11. Mai 2020
 
  • Buch
  • |
  • V, 137 Seiten
978-3-86359-859-4 (ISBN)
 
Für die Weiterentwicklung der EUV-Lithographie werden kompakte und langzeitstabile EUV-Strahlungsquellen für Forschungs- und Entwicklungsarbeiten benötigt. In dieser Arbeit wird eine EUV-Strahlungsquelle auf Basis einer Gasentladung - dem hohlkathodengetriggerten Pinchplasma - bezüglich der im Langzeitbetrieb relevanten Einflussfaktoren untersucht. Signifikante Verbesserungen der Leistungsfähigkeit werden demonstriert und ein technologischer Ausblick vorgestellt.
  • Deutsch
  • Aachen
  • |
  • Deutschland
  • Klappenbroschur
  • Höhe: 205 mm
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  • Breite: 145 mm
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  • Dicke: 9 mm
  • 224 gr
978-3-86359-859-4 (9783863598594)

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